助力高性能膜材料迅猛发展

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  • 硒化铋Bi2Se3的价值

    拓扑绝缘体是一种近几年被发现的新型**物质态,在能量无耗传输、自旋电子学以及**计算机等方面有着很大的应用前景。除了奇异的不受缺陷和非磁性杂质散射的拓扑表面态外,在拓扑绝缘体中引入一个螺旋位错的线缺陷,还可能会产生一对拓扑保护的一维螺旋态,从而创造一条**的导电通道。类石墨烯层状结构的硒化铋Bi2Se3因其简单的能带结构、远大于室温的能量涨落体带隙,被认为是较有前景的拓扑绝缘体材料之一。中国科学

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    2015年*二次全国石墨烯标准化会议暨四项石墨烯标准编制研讨会议,将于12月26日至27日在上海博思大酒店召开。本次会议由中国石墨烯产业技术创新战略联盟标准化**秘书处(泰州石墨烯研究检测平台)主办,中国科学院山西煤炭化学研究所、济宁利特纳米技术有限责任公司、苏州大学承办,复旦大学微电子学院、内蒙古石墨烯材料研究院协办。届时,将有近百名来自全国石墨烯联盟标委会成员及其他石墨烯相关*、企业家共

  • 助力高性能膜材料迅猛发展

        新材料产业作为战略性新兴产业的重要组成部分,中国将重点发展高性能膜材料专项工程,实现光学聚酯膜等自主化生产、提高自给率。薄膜材料是原子、分子或离子沉积在基片表面形成的二维材料。膜材料(或薄膜)所涉及的制造和应用领域十分广泛,包括建筑建材、节能环保、医药、电子、食品、交通、能源、化工等各个行业。各种高性能膜材料成为现时的研究热点。到“十二五”计划结束,也就是到

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