低能低压汞灯 UVL6D UVL6U UVL8D UVL10DH UVL10DL UVL15DH UVL20DH UVL20PH UVL20F 日本SEN特殊光源株式会社成立于1965年,**生产低压汞灯,高压汞灯, UV清洗灯,UV固化灯,杀菌灯,大型光清洗机,桌上型清洗机,大型光固化机,桌上型固化机,手提式固化机,UV紫外线臭氧杀菌机等各种紫外线臭氧产品。所有产品全部日本制造,日本发送。 日本SEN特殊光源株式会社 联系方式Li@senlights.co.jp Q 网/ www.senlights.co.jp 紫外线表面清洗 作者 SEN特殊光源株式会社社长 菊池 清 1 紫外线表面清洗 紫外线表面清洗是近年来新兴的清洗方法。紫外线表面清洗法不同于原有清洗法,没有废水,废气,废物产生。是高能环保型清洗杀菌方法。广泛运用于LCD,PCB,点子,印刷,塑胶,玻璃,涂装等领域。 紫外线清洗是是利用**化合物的光敏氧化作用达到去除附着在材料表面的**物质。经过光清洗后的材料表面可以达到原子级清洁度。 其主要原理为紫外线灯发出的 185nm波长和254nm波长具有很高的能量,**大多数**物的结合能量。由于大多数碳氢化合物对185nm波长的紫外线具有较强的吸收能力,并且可以在吸收185nm波长后分解成离子,流离态原子, 受激分子和中子等,这就是光敏作用。空气中的氧分子在吸收了185nm波长的紫外光后,会产生臭氧和氧气,臭氧对254nm波长具有很强的吸收性,臭氧有可以分解为氧原子和氧气。氧原子具有较强的氧化性,可以将碳氢化合键切断,生成水和二氧化碳等易挥发气体,从被照射物表面飘逸出,**清除物体表面的污染物。这就是紫外线清洗的原理。 清洗法有干洗和湿洗两种。干洗有UV臭氧清洗,等离子清洗,离子清洗等。湿洗有水洗,碱清洗,酸清洗,液体喷射清洗等。我们日常所熟悉的湿式清洗有可以清洗掉较大范围污染的优点。但是也会有清洗不掉的污染。同时由于清洗的溶剂会在被清洗物表面残留,因此对于高精密世界来说也是个污染。 与此相反UV紫外线清洗虽然不能清洗掉大范围的污染,却可以清洗到各个角落的就是光洗净技术(以下简称UV臭氧清洗)。在纳米技术世界里,我们虽然看不到**性污染,但是**污染在表面形成膜(软接着层)如果在这层膜上印刷的话,就会出现鲜度恶化以及针孔等障碍。UV臭氧清洗可以去除的污染有**化合物以及含有油脂的污染等。 2 二次污染的注意 玻璃表面的**性污染膜厚度在单分子层以下时是非常清洁的表面状态。即便是在实验室或这是无菌室里的大气中也会有微量的挥发性**化合物或者硫化合物,将洗净玻璃放置于这种环境下也会被这些蒸汽污染。高度清洗过后的表面接触角会在30分到1小时内恢复到20度。因此我们认为**高清洁玻璃不易长时间保存。 3 可以将粒子极限清洗的清洗工艺 UV臭氧清洗和湿式清洗的结合 UV臭氧清洗是使**性污染膜清洗到单分子层以下的高清洗技术,如下图所示在完成清洗阶段使用UV臭氧清洗技术。但是UV臭氧清洗对于粒子没有效果。同时湿式清洗不能*清除**性污染,会保留几个分子层厚度的油膜。被这些油墨所吸收的粒子在冲洗过程中很难被全部清洗掉。UV臭氧清洗是完成阶段的清洗,在生产过程中我们发现了如下图所示UV臭氧清洗后使用例如温水冲洗的清洗工艺。UV臭氧清洗如图所示油膜基本上都可以清除。在此之后使用纯水冲洗可以将没有油膜保护的粒子很容易的冲洗掉,得到没有粒子,没有**污染物的高清洁面。 这种技术方法不但在液晶显示装置的现场使用,在原版曝光和分光板的制造工程中也被大量使用。
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