详细介绍
磁控溅射(EMI)屏蔽膜,应用于手提电脑、手机壳、电话、无线通讯、视听电子、摇控器、导航和医用工具、汽车EMI等,全自动控制,配置大功率磁控电源,双靶交替使用,恒流输出。*特的工件架合理设计,公自转,产量大、良品率高,利用石英晶振膜厚仪测量膜层厚度,可镀制精确的膜层厚度。PLC人机界面自动控制系统,随时可修改镀膜参数。
设备技术参数说明
设备型号 ZCK-1200B ZCK-1400B ZCK-1600B ZCK-1800B
真空室尺寸 1200×1500 1400×1950 1600×1950 1800×1950
制膜种类 EMI防电磁干扰屏蔽膜、装饰膜等
电源类型 直流磁控电源+高压离子轰击电源
圆柱靶 直流磁控靶(无氧铜靶+不绣钢靶)
真空室结构 立式双开门、立式单开门
真空系统 滑阀泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(或选配:分子泵、深冷泵、深冷系统)
充气系统 质量流量控制仪(1-3路)
极限真空 6×10-4pa(空载、净室)
抽气时间 空载大气抽至5×10-3pa小于15分钟
工件旋转方式 6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
控制方式 手动+半自动+全自动一体化/触摸屏+PLC
备注 真空室尺寸可按客户产品及特殊工艺要求订做
词条
词条说明
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