徐州恒霄电子科技有限公司LPCVD 技术原理与基础机制
- 时间：2025-07-15作者：徐州恒霄电子科技有限公司浏览：88
徐州恒霄电子科技有限公司专注于LPCVD低压化学气相沉积,PVD磁控溅射镀膜机,IBE离子刻蚀机功率器件用等
词条
词条说明
LPCVD 技术是在 10-1000Pa 的低压环境中，通过气态反应物在加热基片表面发生化学反应，实现固态薄膜沉积的工艺。其核心原理包含四个关键步骤：首先是气体输运，将硅烷、氨气、一氧化二氮等反应气体精准引入反应腔室，为反应提供物质基础；其次是表面吸附，在 400-800℃的基片表面，气体分子经物理与化学吸附形成吸附层，这是反应的前置条件；接着是化学反应，高温下吸附的气体分子分解或相互反应，生成二
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