LPCVD设备

时间：2014-10-22

					  	
						
		    			
							
乙酰 99.9% 9000元/T


氯乙酯 99.5% 6000元/T


正戊酯 :戊酯 99.5% 39000元/T


乙酰乙酯 99.9% 8400元/T


异戊酯 :异戊酯 99.5% 8400元/T


酸丁酯 99.9% 6600元/T


三丁酯 99.8% 7200元/T


 99.9% 7200元/T


(EAC):乙酯 99.9%  美国 6300 元/吨 180kg/桶


(MMA) 99.9% 6600元/T 160kg


 99.9% 7200元/T


酸异辛酯(2-EHA) 99.5% 9600元/T


碳酸二(DMC) 99.5% 美国 9200元/吨 200kg/桶


丙二醇酯(PMA) 99.5% 9000元/T


():二异氰酸甲 99.8% 7200元/T


聚(PMMA):亚克力,亚加力 日本 99%  9000/T 170kg/桶 


酸羟丙酯(HPMA) 99.9% 美国 14800元/吨 200kg/桶


芐酯 99% 8400元/T


异辛酯 99% 8400元/T


异烯酯 99.5% 7500元/T


 99.8% 7500元/T


 99.9% 7200元/T


异氰酸酯 M-200 14400元/T


氨基乙酯 99% 21000元/T


酸叔丁酯 99.5% 24000元/T  
             
酸羟乙酯 96.5% 15000元/T


酯 99.9% 7000元/T


 99.5% 14400元/T


酸丁酯 99.9% 11100元/T


聚氨基乙酯(PU) 98% 12000元/T


丙二醇酯 99.5% 9600元/T


酸羟乙酯 99.9% 15000元/T


邻二二丁酯（DBP) 99.9% 6000元/T


二乙二醇丁

词条
词条说明
LPCVD设备
LPCVD设备维修及应用低压化学气相淀积设备使用与维护技术 LPCVD是大规模集成电路(LSI)和**大规模集成电路(VLSI)以及半导体光电器件工艺领域里的主要工艺之一。 PCVD技术可以提高淀积薄膜的质量，使膜层具有均匀性好、缺陷密度低、台阶覆盖性好等优点，成为制备Si 3N4薄膜的主要方法。热壁LPCVD设备使用过程中出现薄膜的淀积速率、薄膜的均匀性、片内均匀性、片间均匀性不理想等问题，提
led**炉
■ LED**炉特点 ◆ 关键件全部采用进口件，具有高可靠性 ◆ 具有可编程的升、降温功能 ◆ 具有断电报警、**温报警、极限**温报警等多种安全保护功能。 ◆ 具有高抗干扰能力 ◆ 具有多种工艺管路，可供用户随意灵活配置 ★ 赛瑞达可
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扩散炉
扩散炉由控制系统、进出舟系统、炉体加热系统和气体控制系统等组成。控制系统控制部分包括：温控器、功率部件、**温保护部件、系统控制。系统控制部分有四个独立的计算机控制单元，分别控制每层炉管的推舟、炉温及气路部分，是扩散/氧化系统的控制中心。扩散炉网络控制辅助控制系统，包括推舟控制装置、保护电路、电路转接控制、三相电源指示灯、照明、净化及抽风开关等。较先进的扩散炉控制系统均已更新或升级到微