详细说明: 材料号:1.4034 牌号:X46Cr13 标准:DIN 17400 ●特性及应用: X46Cr13,德国不锈钢。 ●化学成分: 碳 C:0.43~0.50 硅 Si:≤1.00 锰 Mn:≤1.00 磷 P:≤0.045 硫 S:≤0.030 铬 Cr:12.50~14.50 钼 Mo:— 镍 Ni:— 钒 V:—
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镀膜技术如何改变现代工业?在精密制造领域,金属镀膜技术正悄然推动着产业升级。**金属蒸发镀膜仪作为核心设备,其性能直接影响着镀膜质量和生产效率。这种设备通过真空环境下加热金属材料,使其蒸发并在基材表面形成均匀薄膜,广泛应用于光学镜片、半导体封装等领域。小型化镀膜设备近年来备受青睐,主要因其占地面积小、能耗低、操作灵活等特点。相比大型设备,小型镀膜仪更适合科研院所和小批量生产需求,能够实现快速换料
在现代科技迅速发展的今天,微纳米薄膜技术已成为各大科研领域不可或缺的关键技术之一。薄膜在电子、光学、能源存储及生物医学等多个领域的应用日益广泛,为了满足复杂材料体系及多层镀膜需求,武汉维科赛斯科技有限公司推出的一款高性能设备——多靶磁控溅射镀膜仪,便应运而生。多靶磁控溅射镀膜仪的概述多靶磁控溅射镀膜仪是一款专门为科研与工业应用设计的高端镀膜设备。它的设计初衷是为了应对日益复杂的镀膜需求,尤其是在需
# 膜厚监控仪:精密镀膜工艺的"眼睛"在现代工业生产中,薄膜技术广泛应用于半导体、光学元件、太阳能电池等领域。膜厚监控仪作为这一工艺中的关键设备,其重要性不言而喻。这种精密仪器能够实时监测薄膜沉积过程中的厚度变化,确保产品质量达到设计要求。膜厚监控仪的核心原理基于光学干涉技术。当薄膜材料沉积在基板上时,仪器发射的光束在空气-薄膜界面和薄膜-基板界面分别发生反射,形成干涉条纹。通过分析这些干涉图案的
# 小型镀膜仪的技术特点与选购要点 小型镀膜仪是一种广泛应用于科研、电子、光学等领域的设备,主要用于在材料表面沉积薄膜,以改变其物理或化学性质。相比大型镀膜设备,小型镀膜仪体积更小,操作更灵活,适合实验室和小规模生产使用。 小型镀膜仪的核心技术在于真空镀膜工艺,主要包括蒸发镀膜和溅射镀膜两种方式。蒸发镀膜通过加热材料使其汽化,再沉积到基材表面,适用于金属、氧化物等材料的镀膜。溅射镀膜则利用高能粒子
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