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KRI 考夫曼射频离子源 RFICP220溅射沉积 ZrAlN薄膜
合金化是提高过渡族金属氮化物薄膜硬度及抗磨损、耐腐蚀性能的有效方法。Al是常用合金化元素,能提高薄膜的硬度和抗高温氧化性能。 北京某大学实验室在对硬韧 ZrAlN 薄膜及薄膜力学性能研究中, 采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220 辅助磁控溅射沉积的方法在钛合金和单晶 Si 上沉积不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.&n
红外光学薄膜器件作为红外系统重要组成部分, 已广泛应用于航空航天、、环保、分析仪器等各个领域. 在红外光学应用中, 由于锗在2~14μm红外波段内有高而均匀的透过率, 是一种的优良红外光学材料. 锗单晶切片加工成的锗透镜及锗窗和利用锗单晶透过红外波长特性制成的各种红外光学部件广泛用于各类红外光学系统. &nbs
上海伯东美国 KRi 霍尔离子源 EH 系列, 提供高电流低能量宽束型离子束, KRi 霍尔离子源可以以纳米精度来处理薄膜及表面, 多种型号满足科研及工业, 半导体应用. 霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率, 低能量减少离子轰击损伤表面, 宽束设计提高吞吐量和覆盖沉积区. 整体易操作, 易维护, 安装于各类真空设备中, 例如 e-beam 电子束镀膜机, lo
半导体后端工艺制程中需要使用到例如 Ar, O2 或是其他特殊气体,气体管路系统(真空管路)的作用是把各种气体在满足工艺制程要求的纯度, 压力和流量的前提下稳定的供应到工艺设备内. 上海伯东美国 HVA 插板阀广泛用于高真空或高真空的气体输送环节, 用来改变气流方向, 调节气流量大小, 切断或接通管路, 起到真空隔离密封等作用. 美国 HVA&nb
公司名: 伯东企业(上海)有限公司
联系人: 叶南晶
电 话: 021-50463511
手 机: 13918837267
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地 址: 上海浦东高桥上海浦东新区新金桥路1888号36号楼7楼702室
邮 编:
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