CITE2023 |鹏城半导体携热丝CVD金刚石等全系列方案亮相，备受瞩目

时间：2023-04-13

作者：鹏城半导体技术（深圳）有限公司

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创芯未来鹏城半导体亮相*四届**半导体产业博览会（重庆）
6月带着憧憬与期待，在重庆这片沃土上与我们相遇，未来，初心依旧。*四届**半导体产业（重庆）博览会（简称“GSIE 2022”），将于2022年6月29日-7月1日在重庆国际博览中心举办。鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称“鹏城半导体”）本次携多功能磁控溅射仪解决方案、分子束外延薄膜生长设备（MBE）解决方案、热丝CVD金刚石解决方案等多个解决方案亮相本次展会。一起来先读为快吧。多功能磁控溅射仪
国华三新—鹏城半导体签约仪式在深圳举行
2022年1月17日, 国华三新与鹏城半导体在深圳举行签约仪式, 国华投资吴叶菲总经理等一行出席本次签约仪式；鹏城半导体代表吴向方先生等一行出席本次签约仪式。关于我们鹏城半导体技术（深圳）有限公司，由哈尔滨工业大学（深圳）、北京琨腾科技有限公司以及有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。公司立足于技术*与市场*的交叉点，寻求创新**与可持续发展，解决产业的痛点和国产化难题，争取产业链的自主可控
新一代半导体技术-真空镀膜技术的现状及发展趋势
摘要：随着可持续发展观的深入普及和社会经济的快速发展，经济与环保协同发展成为当下企业发展和科技创新的主要趋势。传统的通电镀膜技术会产生较大的污染，且镀膜质量不高，经济效益低下，已逐渐退出历史舞台，取而代之的是技术更加先进、镀膜质量更加优秀的真空镀膜技术。真空镀膜技术始于20世纪30年代，当前真空镀膜技术已从实验室走向了工厂，实现了大规模生产，在光伏、建筑、装饰、通讯、照明等工业领域得到了广泛的应用
等离子体化学气相沉积设备有哪些特点《台风资讯》
等离子体化学气相沉积设备有两种:其一是PCVD(等离子体一般化学气相沉积)，另一个是PECVD(等离子体增强化学气相沉积)，它们都是在20世纪70年代发展起来的镀膜工艺。其特点是:1、在不同基片上制备各种金属膜、**物聚合膜、非晶态无机物膜;2、等离子体清洗基材，使膜层的附着力增加;3、可制备厚膜，内应力小、致密性好、针孔小、膜层成分均匀、不易产生微裂纹;4、低温成膜，温度对基材没什么影响，避免了