高纯铬靶的发展前景

时间：2021-04-16作者：东莞市鼎伟新材料有限公司浏览：415

高纯铬靶的目标晶粒尺寸和分布：通常，目标材料具有多晶结构，并且晶粒尺寸可以在微米到毫米的数量级上。 对于相同组成的靶材，细颗粒靶材的溅射速率比粗颗粒高纯铬靶的溅射速率快，而晶粒尺寸较小的靶材具有更均匀的沉积膜厚度分布。 通过真空熔融法制造的靶材可以确保块内没有孔，但是通过粉末冶金法制造的高纯铬靶很可能包含一定数量的孔。 孔的存在会在溅射过程中引起异常放电，从而产生杂质颗粒。 此外，由于其密度低，在操作，运输，安装和操作过程中，带有孔的目标很容易破碎。



目标处理流程：集成电路制造用溅射靶的加工工艺主要包括熔炼，均质化，压力加工，机械加工等工艺。 在严格控制靶材纯度的基础上，铬靶、铌靶、钛铝靶通过优化压力处理工艺，热处理条件和机械加工条件，调整靶材的晶粒取向和晶粒尺寸，满足溅射工艺要求。


东莞市鼎伟新材料有限公司专注于钛铝靶,铬铝靶,镍铬合金靶,钨钛合金靶材,镍钒合金靶,高纯铬靶等, 欢迎致电 18681059472

下一篇：高纯铬靶的目标杂质控制

上一篇：科研钒靶材

推荐阅读