高纯铬靶的目标杂质控制

时间：2021-04-16作者：东莞市鼎伟新材料有限公司浏览：393

高纯铬靶的目标杂质控制：如果靶中的夹杂物数量过多，则在溅射过程中可能在晶片上形成颗粒，从而导致互连线短路或断开，这将严重影响膜的性能。高纯铬靶中的大多数夹杂物是在冶炼和铸造过程中形成的，主要由氧化物组成，但也包括氮化物，碳化物，氢化物，硫化物，硅化物等，因此应在冶炼和铸造过程中使用。坩埚，内部 流道，铸模等由还原性材料制成，在浇铸之前，应将熔体表面的氧化物和其他炉渣彻底清除。 通常，它们在真空或无氧环境中熔融并浇铸。铬靶批发、铬靶价格在市场也是不一样的。






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