·描述
高温真空烧结炉、粉末冶金烧结炉、真空气氛烧结炉、太阳能烧结炉、微波烧结炉、坩埚烧结炉、热压烧结炉、真空热压烧结炉、**高温烧结炉、**高温反应烧结炉、聚四氟乙稀烧结炉、立式烧结炉、卧式真空炉、烧结炉、陶瓷烧结炉、链式炉、扩散系统、真空扩散炉、高温扩散炉、烘焙排腊炉、单管氢气炉、真空烧结炉、双工烧结炉、陶瓷烧结炉、马弗炉、消磁炉、温度控制系统、熔封炉、缝焊机、加压检漏台、压力机、时效炉
立式真空烧结炉、单、双管卧式真空烧结炉、压力烧结炉、陶瓷烧结炉、链(带)式烧结炉、全功能微控扩散系统、真空扩散炉、高温扩散炉、烘焙排腊炉、单管氢气炉、真空烧结炉、双工位立式真空烧结炉、陶瓷金属化氢气烧结炉、马弗炉、消磁炉、WDNI系列高精度电脑温度控制系统、WDNX多功能温度控制系统、全钽玻璃绝缘子熔封炉、PFJ-2型平行缝焊机、Y80-2/ RZQ加压检漏台、热稳态压力机、时效炉、
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主要技术指标:
产品名称:真空扩散炉
规格: 内φ130㎜×1100mm
较高使用温度:1200℃
工作温度:1150℃
真空室等温区长度:≥400mm
等温区温度均匀度:(1150℃)±1℃
单点控制精度:±1℃/24小时
升温功率:≤16KW
保温功率:≤7KW
开机重复性:±1℃
冷态真空度:10-3Pa以下
炉体移动速度:≥2米/分钟
炉体定位精度:≤±2毫米
升温时间:≤70min(加载后至恒温时间)
降温时间:≤30min(工件出炉温度≤100℃)
充气压力:≤0.2Mpa
供电方式:三相四线 380V±10% 50Hz
单工作室有效负载重量:≥6kg(指工件及模具重量)
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该系统是生产半导体器件和大规模集成电路的重要设备。
1、系统组成:a)扩散炉主机 b)推拉舟及层流净化台 c)气源柜 d)排毒柜 e)微机控制柜
2、扩散炉管数:1~4管/台
3、炉管内径:φ90㎜×240mm
4、恒温区长度:≤600mm±1℃(300~800℃) ≤600mm±0.5℃(800~1250℃)
5、单点稳定性:±1℃/24h(300~800℃) ±0.5℃/24h(800~1250℃)
6、气源路数:≤6路
7、气源控制:MFC或浮子流量计
8、推拉舟行程:较大1500mm
9、推拉舟速度范围及精度:(1~1000)± 3mm/min
10、推拉舟位置控制精度:≤3mm
11、冷却方式:水冷+风冷
12、微控部分采用STD总线功能模板
a)主CPU板:8031+32ROM+8KRAM+总线接口部件
b)信号调理板:完成对温度过程的采样、放大及高精度A/D的转换
c)人机界面板:接收键入信息管理,并配置9”液晶显示
d)推拉舟接口板:输出推拉舟速度值,完成舟位置检测,输出推拉舟的运动指令
e)MFC接口板:输出MFC设定值,将MFC的流量信息采入计算机
f)可控硅控制及形状量输出板:完成与可控硅触发及开关量放大驱动器接口等功能
g)键盘:采用标准键盘或**小键盘
h)电源板(非STD总线板)
i)可控硅触发板:完成可控硅的过零触发或移相触发驱动(非STD总线板)
j)开关量驱动板:完成由STD总线板的数字信号(TTL电平)的转换、放大,用于驱动气路阀(非总线板)
k)推拉舟驱动部分:接收总线板输出的推拉舟速状态指令,并将位置转换成标准信号输出,有手动自动转换
13、微机控制特点:
a)工艺温度段数:1~14段,可选段运行
b)单段时间范围:1~1080分钟/斜变段 1~9999分钟/恒温段
c)三个温度测控回路独立修正温度测量值 d)三个温度测控点独立修正温度测量值
e)PID参数,温度修正量可在线修改 f)温度设定单位:℃ 分辨率:0.1℃
g)工艺段时间设定单位:min,分辨率:1min h)各类工艺数据断电后长期保存
i)工艺气体流量,推拉舟运动状态由微机实行闭环控制 j)中文显示各类提示信息
k)各类输入信息采用填表方式完成,条例清楚,逻辑合理
词条
词条说明
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