石油蜡和石油脂滴熔点测定器适用于检测石油蜡和石油脂的滴熔点。 技术参数 适用标准:GB/T8026 ISO6244 制冷方式:压缩机制冷 加热方式:电热管浴加热 工作电源:AC220V±10% 50Hz 控温方式:进口数显PID温控仪 热浴范围:常温~100℃±0.2℃ 冷浴温度:常温~-10℃±0.5℃ 主要特点 水浴加热,安全环保; 进口全封闭式压缩机制冷; 不锈钢加热浴; 单独的温度控制系统; 内部设有循环通风器; 一体式结构,外型小巧、美观; 单独的加热和制冷系统; 压缩机设有自我保护功能; 温度过高系统报警; 微电脑控制器, PID功能,数字显示温度(测试时连续显示),精确度0.1°C,Pt100 RTD温度探头;
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黄石**金属蒸发镀膜仪价格:高精度薄膜制备设备的选择 引言在现代材料科学、半导体制造、光电子器件研发等领域,高精度的薄膜制备技术发挥着至关重要的作用。**金属蒸发镀膜仪作为一种先进的薄膜沉积设备,以其优异的镀膜质量和稳定性,成为科研机构和高科技企业的可以选择。武汉维科赛斯科技有限公司作为一家专注于微纳米薄膜设备及自动化控制系统的高科技企业,致力于为客户提供高性能的**金属蒸发镀膜仪,助力科研创新与产业
小型磁控溅射镀膜仪是一种常用的薄膜制备设备,其功能特点如下:可制备多种材料薄膜:小型磁控溅射镀膜仪可以制备多种材料的薄膜,包括金属、合金、氧化物、氮化物等。并且可以在同一设备中制备多种材料的复合薄膜,具有很高的灵活性。镀膜质量高:小型磁控溅射镀膜仪采用磁控溅射技术,可以制备非常高质量的薄膜。由于采用了高真空环境,可以避免与空气中的杂质反应,从而获得高纯度的薄膜。薄膜厚度均匀:小型磁控溅射镀膜仪可以
在当今科技飞速发展的时代,桌面型真空镀膜仪作为材料科学研究与微电子器件开发领域的重要工具,正日益受到科研工作者的青睐。作为一家专注于中高端微纳米薄膜设备及自动化控制系统设计、开发与销售的高科技公司,我们始终秉持客户需求至上的经营理念,致力于为科研领域提供高效、精准的解决方案。桌面型真空镀膜仪是一种紧凑而高效的实验室设备,其设计初衷是为了满足材料科学研究、微电子器件开发以及光学元件表面处理的需求。该
在现代材料科学的快速发展中,薄膜技术的应用愈发广泛,尤其是在高科技领域如半导体、光电子及**发光二极管(OLED)等。为了满足市场和科研的需求,武汉维科赛斯科技有限公司作为一家专业提供中高端微纳米薄膜设备的高科技公司,推出了**金属蒸发镀膜仪这一关键设备。**金属蒸发镀膜仪的基本介绍**金属蒸发镀膜仪是一种高精度的薄膜制备设备,它的工作原理是利用热蒸发技术,在真空环境中将**金属材料加热至其蒸发点
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